Titanium Sputtering Sasaran Dengan Ketulenan Tinggi

Sasaran sputtering titanium dengan ketulenan tinggiadalah sumber sputtering yang membentuk pelbagai filem nipis berfungsi pada substrat dengan sputtering magnetron, penyaduran ion berbilang arka atau sistem salutan jenis lain di bawah keadaan proses yang sesuai. Ringkasnya, bahan sasaran adalah bahan sasaran yang dibombardir oleh zarah bercas berkelajuan tinggi.

Ia digunakan dalam senjata laser bertenaga tinggi. Apabila laser dengan ketumpatan kuasa yang berbeza, bentuk gelombang keluaran yang berbeza, dan panjang gelombang yang berbeza berinteraksi dengan sasaran yang berbeza, ia akan menghasilkan pembunuhan dan kerosakan yang berbeza. kesan. Sebagai contoh: salutan sputtering magnetron penyejatan adalah salutan penyejatan pemanasan, filem aluminium dan sebagainya. Dengan menggantikan bahan sasaran yang berbeza (seperti aluminium, tembaga, keluli tahan karat, titanium, sasaran nikel, dll.), sistem filem yang berbeza (seperti filem aloi superhard, tahan haus, anti-karat, dll.) boleh diperolehi.

Parameter

ciri-ciri

1. Berat ringan

2. Kekuatan spesifik yang tinggi

3. Rintangan kakisan

4. Rintangan suhu tinggi dan rendah

Aplikasi

★Pembinaan Kapal ★Penyaduran Elektrolitik ★Aeroangkasa ★Industri Kimia ★Peralatan Perubatan

Butiran

Diperbuat daripada bahan mentah berkualiti tinggi, tahan haus dan tahan kakisan, penggunaan jangka panjang

Tiada rekahan mengelupas pada permukaan, tiada kesan minyak, permukaan sisi licin dan bersih

Spesifikasi lengkap, pemotongan sewenang-wenangnya, menyokong penyesuaian bukan standard

Ketulenan bahan sasaran mempunyai kesan yang besar terhadap prestasi filem. Kemurnian adalah salah satu petunjuk prestasi sasaran.

Kesucian

Kemurnian sasaran merupakan salah satu petunjuk prestasi utama sasaran kerana kesucian sasaran sangat mempengaruhi prestasi filem. Walau bagaimanapun, dalam aplikasi sebenar, keperluan untuk ketulenan bahan sasaran adalah tidak sama. Sebagai contoh, dengan perkembangan pesat industri mikroelektronik Saiz wafer silikon telah dikembangkan daripada 6 ", 8" kepada 12 ", lebar pendawaian telah dikurangkan daripada 0.5 um kepada 0. 25 um, 0.18 um dan 0.13 um. Sebelum ini, ketulenan sasaran ialah 99.995 peratus .

kandungan kekotoran

Sumber utama filem termendap ialah oksigen dan lembapan pepejal dan liang sasaran. Sasaran untuk pelbagai aplikasi mempunyai keperluan berbeza untuk tahap kekotoran yang berbeza. Sebagai contoh, sasaran aluminium tulen dan aloi aluminium yang digunakan dalam industri semikonduktor mempunyai keperluan khas untuk kandungan logam alkali dan kandungan unsur radioaktif.

Ketumpatan

Untuk mengurangkan pori pepejal sasaran dan meningkatkan prestasi filem terpercik, sasaran biasanya perlu lebih padat. Ketumpatan sasaran mempengaruhi bukan sahaja kadar sputtering tetapi juga sifat elektrik dan optik filem. Lebih tinggi ketumpatan sasaran, lebih baik prestasi filem. Di samping itu, apabila ketumpatan dan keamatan sasaran dinaikkan, sasaran boleh menahan tekanan haba semasa sputtering. Ketumpatan adalah salah satu petunjuk prestasi sasaran.

Saiz bijirin dan taburan saiz

Biasanya sasaran adalah polihablur, dan saiz zarah mungkin dalam susunan mikrometer hingga milimeter. Dalam kes sasaran yang sama, kadar sputtering sasaran berbutir halus adalah lebih cepat daripada kadar sputtering sasaran berbutir kasar, manakala pemendapan sputter bagi sasaran saiz zarah yang lebih kecil (taburan seragam) mempunyai taburan ketebalan seragam (seragam) . Pengagihan.

Jika anda berminat dengansasaran sputtering titanium dengan ketulenan tinggi, sila hubungi kami:

E-mel:zhangjixia@bjygti.com

laman utama:http://www.toptitech.com

Cool tags: sasaran sputtering titanium dengan ketulenan tinggi, China, pembekal, pengilang, disesuaikan, penggunaan, senarai harga, untuk dijual, dalam stok, sampel percuma, bahan berliang