Sasaran Titanium Gr5

Sasaran Titanium GR5bahan merujuk kepada sumber sputtering yang membentuk pelbagai filem berfungsi pada substrat dengan sputtering magnetron, penyaduran ion berbilang arka, atau jenis peralatan salutan lain di bawah keadaan proses yang sesuai. Sasaran sputtering digunakan secara meluas dalam hiasan, acuan, kaca, peranti elektronik, semikonduktor, rakaman magnetik, paparan satah, sel suria, dan banyak bidang lain.

Ketulenan adalah salah satu indeks prestasi utama bahan sasaran kerana ketulenan bahan sasaran mempunyai pengaruh yang besar terhadap prestasi nipis.

Bahan sasaran yang berbeza mempunyai keperluan yang berbeza untuk kandungan kekotoran yang berbeza di bawah keadaan yang berbeza.

Biasanya, bahan sasaran adalah polihabluran dengan saiz butiran antara mikron hingga milimeter. Untuk sasaran yang sama, kadar sputtering sasaran dengan butiran halus adalah lebih cepat daripada sasaran dengan butiran kasar. Filem nipis yang dimendapkan oleh sputtering sasaran dengan perbezaan saiz butiran yang lebih kecil (taburan seragam) mempunyai taburan ketebalan yang lebih seragam.

Pembekal Sasaran Titanium Sputtering

Sasaran Sputtering Titanium Ketulenan Tinggi

Sasaran Sputtering Titanium Tungsten

Sasaran Sputtering Titanium Oksida

Titanium Rotatable Sputtering Target

Sasaran Sputtering Titanium Pvd Gred 5

Sasaran Perduaan Titanium

Nama produk: Sasaran sputtering Titanium (sasaran Ti)

Bahan: Titanium tulen(GR1/GR2)

Ketulenan: 299.5 peratus

Ketumpatan:4.51 g/cm3

Saiz bijian:s1 00um

Saiz(mmj:Da100-40/00*32mm,Dia63-40/6332m dan lain-lain.

Teknologi: HIP

Hubungi Kami:

Jika anda mempunyai sebarang pertanyaan, sila hubungi kami. Waktu bekerja: 8:30 pagi hingga 17:30 malam

E-mel:zhangjixia@bjygti.com

Cool tags: sasaran gr5 titanium, China, pembekal, pengilang, disesuaikan, penggunaan, senarai harga, untuk dijual, dalam stok, sampel percuma, bahan berliang