Kartrij Penapis Serbuk SS316L Benang Lelaki 3/4" Untuk Penapisan Peredaran Buburan CMP

Kartrij penapis serbuk SS316L yang disinter benang lelaki TOPTITECH direka khusus untuk penapisan edaran buburan CMP dalam proses perancangan wafer semikonduktor. Penekanan isostatik sejuk dan pensinteran vakum bersuhu tinggi-mengubah gas-bersaiz 316L keluli tahan karat berliang berpori dengan struktur berliang keluli tahan karat berpori. Sambungan benang lelaki 3/4" membolehkan penurunan terus-dalam penggantian ke dalam sistem penghantaran buburan CMP sedia ada, termasuk gelung edaran semula dan{11}}titik penggunaan-himpunan pada manifold pad penggilap. Mekanisme penapisan kedalaman memerangkap bahan cemar zarah besar-aglomerat silika, serpihan ceria dan bahan pelelas bersaiz besar-dalam rangkaian liang yang saling bersambung sambil mengekalkan integriti pelelas buburan. Penarafan penapisan dari 0.2 µm hingga 65 µm menampung kedua-dua buburan oksida berasaskan silika-dan buburan STI-berasaskan ceria.

Sebatian degradasi buburan CMP-seperti agregat kasar, zarah gel daripada pecahan surfaktan, sisa logam daripada kakisan paip dan produk sampingan bakteria daripada storan peredaran semula-secara konsisten mendap ke dalam kek penapis pada permukaan kartrij. Semua-pembinaan logam menghapuskan risiko penghijrahan media yang lazim dalam kartrij berasaskan polimer atau gentian-, menghalang kecacatan wafer hiliran termasuk calar mikro, jerebu dan kerosakan corak daripada pencemaran zarah asing. 3/4" kartrij penapis serbuk SS316L yang disinter benang lelaki menahan kitaran pembersihan semula beralkali–1 penyahgradan (pH) dan penyahgradan semula 10 ultrasonik (pH). Boleh diguna semula merentasi pelbagai kempen pengeluaran, kartrij ini memberikan hayat perkhidmatan 5-10 tahun berbanding kitaran penggantian 2-4 minggu alternatif polimer pakai buang, dengan ketara mengurangkan kos boleh guna fab semikonduktor dan masa henti.

• Bahan: Serbuk SS316L
• Saiz: φ40*400mm
• Saiz liang: 0.5um
• Penyambung: 3/4: benang lelaki
• Keliangan: 30%-40%
• Teknik: Sintering

I. Pengekalan Zarah Tanpa Oleh-Risiko Pas

Gas-memadatkan serbuk sfera 316L dan sinter ke dalam matriks penapisan kedalaman monolitik, memberikan penyingkiran berkadar mutlak sehingga 0.2 μm hingga 60 μm. Struktur tersinter menghilangkan saluran pintasan dalaman dan penghijrahan sederhana yang terdapat dalam reka bentuk luka atau berlamina. Penapisan kedalaman menangkap agregat kasar-agregat silika, ceria, alumina-di seluruh rangkaian berliang, bukan hanya pada permukaan. Ciri-ciri tidak menumpahkan menghalang pencemaran gelung edaran semula buburan hulu dan pemasangan pendispensan pad. Pengagihan saiz liang yang tepat daripada penekanan isostatik sejuk dan pensinteran hidrogen-atmosfera memastikan kecekapan penapisan yang konsisten merentas berbilang lot pengeluaran.

 

 

II. Kapasiti Menahan Kotoran Tinggi dan Jangka Hayat Perkhidmatan Dilanjutkan

 

Kartrij benang lelaki 3/4" menawarkan kapasiti menahan kotoran yang besar, menangkap sebatian degradasi buburan-zarah gel daripada pecahan surfaktan, sisa logam daripada kakisan paip, produk sampingan bakteria daripada storan edaran semula-dengan penurunan tekanan awal yang rendah. Keliangan yang tinggi (30–40%) dan struktur pori-pori berterusan yang seragam mengekalkan kebolehturasan yang tinggi. peredaran. Hayat perkhidmatan yang dilanjutkan mengurangkan kekerapan penukaran penapis, penting untuk fabrik wafer throughput tinggi.

III. Kestabilan Kimia dan Terma Unggul

Pembinaan tersinter SS316L menahan persekitaran pH yang melampau (pH 10–12) yang terdapat dalam rumusan buburan berasaskan silika dan ceria. Kandungan molibdenum memberikan rintangan pitting dan perlindungan retakan kakisan tegasan klorida berbanding dengan gred 304L. Struktur monolitik logam penuh menahan kerosakan akibat tekanan tinggi, kitaran beban berselang-seli dan turun naik suhu semasa operasi pam edaran semula.

 

IV.Jumlah Kos Pemilikan Boleh Dibersih, Boleh Dijana Semula dan Rendah

 

Pembinaan semua logam menyokong pelbagai kaedah pembersihan: siram belakang, mandian ultrasonik atau pembakaran pengoksidaan suhu tinggi. Kitaran pembersihan alkali (pH 10–12) dan penjanaan semula ultrasonik memulihkan kebolehtelapan asal tanpa degradasi struktur. Kartrij memberikan hayat perkhidmatan 5‑hingga‑10× lebih lama berbanding polimer pakai buang (PTFE/PVDF) atau penapis berasaskan gentian, secara drastik mengurangkan kos boleh guna dan masa henti alat.

V. Retrofit Drop‑In Terus dengan Benang Lelaki 3/4"

Sambungan benang NPT lelaki 3/4" disepadukan dengan lancar ke dalam sistem penghantaran buburan CMP sedia ada-gelung edaran semula, pemasangan titik penggunaan pada manifold pad penggilap-tanpa penyesuai tambahan. Serasi dengan perumah penapis standard, membolehkan penggantian medan dalam masa beberapa minit. Laser-memastikan penutup bawah aliran kimpalan tinggi tanpa dikimpal. persekitaran fabrikasi wafer bergetar tinggi Kelengkapan hujung yang boleh disesuaikan, jenis benang dan dimensi keseluruhan tersedia mengikut keperluan pelanggan.

 

VI. Berprestasi dalam Aplikasi Gas dan Cecair Suhu Tinggi

 

Melangkaui penapisan buburan ke saluran pengedaran gas, penapisan wap dan pemindahan kimia ketulenan tinggi. Sesuai untuk penapisan gas suhu tinggi sehingga 600 darjah, dengan kestabilan terma dalam kitaran pensterilan autoklaf di mana membran polimer merosot. Menyediakan fungsi tambahan: pengurangan hingar untuk ekzos pneumatik, penimbal gas dalam alat kawalan pneumatik CMP, dan terencat api untuk saluran gas berbahaya.

1. Penapisan Edaran Buburan CMP dalam Perancangan Wafer Semikonduktor

Kartrij penapis serbuk SS316L benang jantan 3/4" yang disinter mengeluarkan aglomerat pelelas bersaiz besar (silika, ceria, silika koloid) daripada buburan planarisasi mekanikal kimia sambil mengekalkan zarah penggilap berkesan antara 10–200 nm. Matriks penapisan kedalaman memerangkap bahan cemar zarah-zarah silika, penyaman silika. sisa daripada kakisan paip-dalam rangkaian liang yang saling bersambung tanpa saluran pintasan. Pengekalan mutlak menghapuskan calar mikro, jerebu dan kerosakan corak pada permukaan wafer, secara langsung meningkatkan hasil cetakan dalam logik lanjutan dan fabrikasi memori Sesuai terus ke dalam titik-alatan -penggunaan semula C/MP4 lelaki. membolehkan penggantian medan pantas tanpa pengubahsuaian perumahan.

2. Pemulihan Pemangkin dalam Proses Penapisan dan Petrokimia

Kartrij penapis serbuk SS316L yang disinter benang lelaki 3/4" beroperasi di bawah tekanan pembezaan tinggi (>30 bar) dalam tugas pengasingan cecair-pepejal dan gas-pepejal merentas unit hidrocrackers, hydrotreaters dan FCC. Menangkap pemangkin logam berharga (platinum, paladium, Raney nikel‑pemangkin-pemangkin) dan zeoffaliteing cracking aliran, memulihkan denda pemangkin sehingga 0.5 μm Keliangan terbuka yang tinggi (30–50%) dan rangkaian tersinter tegar menahan hakisan daripada aliran buburan pemangkin berkelajuan tinggi, membolehkan kitaran atas aliran dilanjutkan antara penjanaan semula cucian belakang.

3. Suhu Tinggi-Pemurnian Gas dan Stim

Kartrij penapis serbuk SS316L yang disinter benang lelaki 3/4" tahan operasi berterusan sehingga 600 darjah dalam atmosfera pengoksidaan, menjadikannya sesuai untuk pra-penapisan penyahsulfuran gas serombong, perlindungan probe sistem pemantauan pelepasan berterusan (CEMS) dan penyingkiran habuk suhu tinggi daripada syngas gasifier. Menjalankan penapisan wap 20–30 darjah, penapisan semula wap kering 0 darjah, 30. skala dan endapan karbon yang merosakkan penapis pensterilan wap steril di hiliran Juga terpakai untuk penyingkiran minyak udara termampat, penghapusan dalam gas-pengumpul cecair dan penapisan bolong steril untuk penapai dan bioreaktor.

4. Pemprosesan Kimia dan Pelarut Menghakis

Kandungan molibdenum 316L memberikan rintangan pitting dalam media yang mengandungi klorida (air laut, peluntur, perkhidmatan asid hidroklorik) di mana 304 keluli tahan karat gagal. Kartrij penapis serbuk SS316L yang disinter benang lelaki 3/4" menapis pelarut kutub yang kuat (DMF, NMP, aseton), asid sulfurik pekat, larutan soda kaustik dan asid organik tanpa degradasi bahan. Penapisan kedalaman menangkap denda pemangkin daripada reaktor penghidrogenan, membuang sisa pempolimeran daripada sistem penghalusan semula bahan kimia monomer dan pengedaran semula B. keserasian sesuai dengan kedua-dua penapisan proses berterusan dan operasi kelompok dengan penukaran pelarut yang kerap.

5. Tenaga Hidrogen dan Sistem Elektroliser

Struktur 316L tersinter berliang mikro berfungsi sebagai lapisan peresap hidrogen dalam elektrolisis PEM dan sistem elektrolisis air beralkali. Kartrij penapis serbuk SS316L benang lelaki 3/4" yang disinter menangkap kekotoran ionik dan bahan cemar zarah daripada aliran elektrolit yang beredar semula, melindungi pemasangan elektrod membran daripada degradasi. Juga digunakan sebagai elemen pemisah cecair-gas di alur keluar elektrolisis, mengalihkan pemindahan kelembapan daripada gas produk hidrogen sebelum dimampatkan.

6. Air Industri dan Rawatan Air Sisa

Kartrij penapis serbuk SS316L benang lelaki 3/4" yang disinter menggilap osmosis songsang meresap dalam sistem air ultratulen semikonduktor, mengeluarkan zarah surih ke 0.22 μm untuk memenuhi piawaian SEMI untuk pembilasan wafer. Digunakan dalam penapisan air yang dihasilkan untuk suntikan medan minyak, mengeluarkan pepejal alir terampai dari tiupan balik akhir yang boleh digilap dan juga menggilap. Talian pemulangan CIP, menangkap percikan kimpalan, serpihan gasket dan produk kakisan daripada rangkaian paip keluli tahan karat.

Tel: 0917-3873009

Telefon: +86 18992731201

e-mel:zhangjixia@bjygti.com

Faks: 0917-3873009

Alamat: No. 195, Gaoxin Avenue, High-Zon Pembangunan, Bandar Baoji, Shaanxi, China

WhatsApp: +86 18992731201

Cool tags: 3/4" kartrij penapis serbuk ss316l benang lelaki disinter untuk penapisan edaran buburan cmp, China, pembekal, pengilang, disesuaikan, penggunaan, senarai harga, untuk dijual, dalam stok, sampel percuma, bahan berliang